通過分子束外延技術生長的一塊由兩種不同材料組成的材料,在介面處形成的結。異質結兩邊半導體材料的電導類型相同時,稱為同型異質結;兩邊半導體材料的電導類型不同時,稱為異型異質結。如果在異質結的一邊摻雜,另一邊不摻雜,則形成調製摻雜異質結,在結的介面將產生二維(平面的)電子氣。二維電子氣具有獨特的物理性質,如量子霍耳效應,高電子遷移率等。利用異質結獨特的量子特性,可制出具有特殊功能的新器件。如GaAs/AlxGa1-x As調制摻雜異質結,在AlxGa1-x As層中靠近界面處摻施主(矽)雜質,雜質電離後進入導帶。由於界面能帶的不連續性以及電離施主產生的靜電場,GaAs層靠近界面處可形成電子的量子阱,電子積累在其中,形成二維電子氣。由於電離雜質與量子阱中的電子空間分離,它們對電子的散射作用大大減小,二維電子氣中的電子具有比體材料高得多的電子遷移率,達到106厘米2/伏·秒以上。基於此原理已制成高電子遷移率晶體管(HEMT),截止頻率高達270吉赫。1957年H.克勒默改進瞭異質結雙極晶體管,通過逐漸改變組成異質結材料的合金組分,用漸變的帶隙代替突變的結界面帶隙,解決瞭原來雙極晶體管截止頻率與放大系數之間的矛盾,提高瞭發射極的效率和工作頻率。1968年Z.I.阿爾費羅夫發明瞭異質結激光器,對載流子和光場同時起到瞭限制作用,降低瞭閾值電流,增加瞭激射效率。為此他們和集成電路的發明者J.S.基爾比獲得瞭2000年諾貝爾物理學獎。