高分子輻照降解

　　在高能射線作用下，高分子發生主鏈斷裂或老化變性的過程。輻照降解屬於無規降解。一般熱降解往往從某些不穩定的端基開始，分解得到大量的單體，分子量較低的聚合物產率則較低，而利用輻照降解方法可制取分子量大小不同的高分子，反應產率較高（見高分子降解、高分子熱降解）。

　　最典型的輻照降解的高分子是聚異丁烯、聚甲基丙烯酸甲酯和聚四氟乙烯等，天然高分子纖維素及其衍生物也屬此類。高分子輻照降解可以在室溫進行，射線源一般用鈷60或電子加速器，，輻照劑量視高分子結構不同可以在10⁶～10⁹拉德范圍內。輻照降解主要是由於射線打斷高分子主鏈後所形成的自由基，由於結構因素（如空間位阻效應等）的影響難於進行偶合反應，而隻進行歧化或鏈轉移反應，使分子量迅速下降。平均分子量下降的速度與輻照劑量成線性關系，因而可以用輻照劑量來控制所需要的產物分子量。在制備某些不易用聚合方法合成的低分子量的聚合物，如工業用的低分子量的聚氧化乙烯時，就采用這種方法。聚四氟乙烯廢料經輻照降解後可得到粒度為幾個微米的細粉，稱為聚四氟乙烯蠟，生產過程簡單，蠟收率高，產生毒性氣體少，可用作潤滑油的添加劑及耐溫、耐摩擦材料的填料。